В полупроводниковой отрасли возник новый скандал. Министр торговли США Говард Лютник сообщил, что его тревожит возможная «секретная» поставка Китаю литографических систем EUV от ASML. В отрасли на это заявление отреагировали скепсисом и насмешками, особенно в китайском сегменте.
EUV-сканер нельзя скрыть. Машина весит около 180 тонн. Ее перевозят как спецгруз. Для установки нужны длительные работы, точная калибровка и постоянное сервисное сопровождение высокого уровня. По сути, это самая передовая литографическая система для современных чипов.
Эксперты считают маловероятной идею о том, что такую машину могли отправить в Китай без ведома США и ASML. Компания ASML опровергла передачу каких-либо EUV-систем или специальных компонентов в адрес Китая.
Инцидент показал главную проблему китайской полупроводниковой отрасли. Литография остается узким местом на пути к технологическому суверенитету.
Разница между DUV и EUV проста. DUV использует длины волн 193 нм и 248 нм. Современные иммерсионные системы позволяют делать сложные чипы, но требуют множества этапов экспонирования и строгого контроля. EUV работает на длине волны 13,5 нм. Это дает лучшее разрешение и меньше шагов, но технология сложна: источник плазмы на оловянных каплях, отражающая оптика вместо линз и сложная глобальная цепочка поставок.
Пока Пекин ищет обходные пути, Вашингтон продолжает усиливать давление, пытаясь замедлить развитие китайской полупроводниковой индустрии. Ранее Китай под шумок СВО построил гигантскую ядерную базу.